Gases residuales  

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ESCAPE (burn/wet)

La tecnología de quemador y torre de lavado es uno de los métodos más eficientes para el tratamiento de gases residuales, además con la ventaja de estar disponible a un bajo coste de adquisición.

Folleto: DAS ESCAPE (PDF, 970 KB)


UPTIMUM

UPTIMUM - Tecnología de quemador y torre de lavado para el tratamiento seguro y eficiente de gases procedentes de procesos CVD

UPTIMUM es una de las tecnologías líderes del sector de combustión de gases residuales que incluye a la vez la depuración simultánea de las demás substancias. La planta permite tratar hasta 500 slm de gases residuales procedentes de procesos CVD, los cuales son conducidos hacia el sistema combinado de quemador y torre de lavado a través de un máximo de cuatro entradas de gases separadas. A diferencia de la tecnología ESCAPE, la combustión se realiza en este caso de arriba hacia abajo. Una capa de líquido en la pared interior del reactor evita la corrosión y la sedimentación de partículas sólidas. La columna de lavado, donde tienen lugar la absorción de componentes solubles y la suspensión de partículas, está dispuesta en paralelo al reactor. UPTIMUM es un sistema que permite tratar y evacuar de forma segura y eficiente los gases de deposición como SiH4, NH3 etc. y los gases de purificación como NF3, F2 ó SF6.

El sistema destaca por ventajas como alta disponibilidad y gran eficiencia de tratamiento y su bajo coste de adquisición; además requiere sólo un mantenimiento mínimo y puede montarse perfectamente en condiciones donde escasea el espacio e instalarse en una red para funcionar conjuntamente con otros sistemas.
Existe la posibilidad de usar diferentes gases combustibles.

Folleto: DAS UPTIMUM (PDF, 800 KB)


GIANT (burn/wet)

GIANT es un sistema combinado de quemador y torre de lavado para el tratamiento de mayores cantidades de gases residuales. Su tecnología permite el tratamiento seguro y eficiente los gases de deposición como el SiH4 y el NH3, y también de los gases de purificación de la cámara como el NF3 ó el F2.

Folleto: DAS GIANT (PDF, 830 KB)


EDC -1500

Separador electrostático para caudales volumétricos de hasta 90m³/h de gases residuales cargados de partículas o aerosoles. El separador está equipado con una pared fluida y con un sistema de autolimpieza para sus electrodos. El sistema reduce eficientemente el riesgo de bloqueo en las tuberías de gases y puede combinarse con la mayoría de las plantas de tratamiento de gases residuales.

Folleto: DAS EDC (PDF, 570 KB)


AQUABATE

Este tipo de lavador se aplica predominantemente in situ en aplicaciones de la industria de semiconductores. Las torres de lavado de este tipo se instalan a la menor distancia posible detrás de las bombas de vacío, por lo cual se obtiene la óptima protección para el sistema de aspiración de la fábrica de chips.
El AQUABATE está disponible con un máximo de tres entradas independientes con funcionalidad antibloqueo. Los conductos de alimentación hacia estas entradas pueden calentarse a temperaturas de hasta 150°C.

Folleto: DAS AQUABATE (PDF, 860 KB)


AQUABATEEPI

Las siglas EPI significan epitaxia. Estas torres de lavado se han desarrollado específicamente para el tratamiento y la eliminación en procesos con métodos epitaxiales. A la hora de diseñar estos lavadores hemos atribuido especial importancia al cumplimiento de unos elevados estándares de seguridad con respecto al gas portador que se usa para el proceso de epitaxia, el hidrógeno. Después del lavado, el hidrógeno es diluido controladamente hasta el límite inferior de explosividad (LIE).

Brochure: DAS AQUABATE (PDF, 860 KB)


Monitorización

La monitorización (MONITORING) ha sido desarrollada a fin de controlar la planta de tratamiento de gases residuales durante los procesos críticos en la producción de semiconductores. Los requerimientos clave son en este caso la vigilancia de la planta industrial, el aumento del rendimiento y el mejoramiento del mantenimiento. MONITORING se encarga de registrar automáticamente tanto el estado operativo y los parámetros característicos del proceso de las unidades ESCAPE, como la alimentación central de las bases o lejías, y estas informaciones se guardan en una base de datos.


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